近年來，隨著現(xiàn)代科技的發(fā)展和新一輪工業(yè)革命的不斷深化，發(fā)達國家紛紛實施再工業(yè)化戰(zhàn)略。數(shù)字化、智能化技術深刻地改變著制造業(yè)的生產(chǎn)模式和產(chǎn)業(yè)形態(tài)，加上新材料、新能源等技術的重大突破，將引發(fā)新一輪科技和產(chǎn)業(yè)的變革。
　　尤其是在高新技術產(chǎn)品的加工生產(chǎn)過程中，如何來滿足加工的精密化、產(chǎn)品的微型化，高純度(高質(zhì)量)、高可靠性的需求等問題，對生產(chǎn)環(huán)境中的潔凈等級提出 了更高的要求。另外一方面，隨著現(xiàn)代生物醫(yī)學的發(fā)展，對潔凈室中細菌數(shù)目、微生物污染的控制問題要求也不斷提高，以保證醫(yī)療醫(yī)藥、生物研究、食品生產(chǎn)等行 業(yè)不受微生物污染或感染。
　　工業(yè)潔凈技術和生物潔凈技術必將隨著科學技術的發(fā)展和工業(yè)產(chǎn)品的日新月異而快速地發(fā)展，成為現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)和科學實驗活動不可缺少的重要技術標志之一。
　　目前，潔凈技術已廣泛應用于各行各業(yè)或其他要求防止粒子污染、微生物污染的環(huán)境控制、由于各行業(yè)間差距較大，且要求不同，因此控制環(huán)境的內(nèi)容、指標均不相同。下面就來對常見的行業(yè)潔凈技術的要求進行總結。
　　1、醫(yī)藥產(chǎn)品生產(chǎn)的潔凈室要求
　　藥品是用于預防、治療疾病和恢復、調(diào)整機體功能的特殊商品，它的質(zhì)量直接關系到人的健康和安危。如果一些藥品在制造過程中受到微生物、塵粒等污染或交叉污染，可能會產(chǎn)生預料不到的疾病和危害。
　　2、醫(yī)療應用及醫(yī)學研究中的潔凈室要求
　　以集成電路為代表的工業(yè)環(huán)境控制中多采用工業(yè)潔凈技術和工業(yè)潔凈室;而在醫(yī)學中，多采用生物潔凈室進行微生物污染控制。在生物潔凈室里，這些微生物多由 細菌和真菌組成，粒徑尺寸在0.2um以上，常見的細菌粒徑都在0.5um以上，并且多數(shù)依附在其他物質(zhì)微粒上。生物污染渠道不僅通過空氣，還與人體、與操作人員的服裝有關。
　　在醫(yī)學研究領域中，生物實驗室、無菌實驗室以及供生物化學、醫(yī)學實驗用的“特殊飼養(yǎng)動物”飼養(yǎng)室也都十分需要控制微生物污染。
　　3、精密機械和精細化工產(chǎn)品生產(chǎn)的潔凈室要求
　　隨著科學技術的發(fā)展，許多工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)加工對生產(chǎn)環(huán)境中的含塵濃度提出******的要求，這就需要其生產(chǎn)環(huán)境中具有一定的空氣潔凈等級和控制生產(chǎn)過程所需各 類相關物質(zhì)的供應質(zhì)量。例如，在膠片生產(chǎn)中，膠片若受到了塵埃的污染，將會發(fā)生乳劑氧化，活性減弱，pH值變化等，從而影響膠片的感光性能。
　　4、半導體、集成電路生產(chǎn)的潔凈室要求
　　半導體材料提純作為發(fā)展半導體器件的重要基礎。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個突出問題。
　　集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個數(shù)有關。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有******的要求，而且也需進一步控制粒子數(shù);同時，對于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學污染控制也有相關的要求。
　　5、化妝品、食品生產(chǎn)的潔凈室要求
　　現(xiàn)代化妝品中大多含有蛋白質(zhì)、維生素、氨基酸、植物萃取液等，這些組分為細菌、霉菌等微生物的滋生、繁殖提供了有利條件。因此，微生物的污染是影響化妝 品質(zhì)量的重要因素。化妝品生產(chǎn)過程中使用的潔凈室的控制對象主要是塵粒、微生物，與藥品生產(chǎn)用的潔凈室要求類似。目前，化妝品生產(chǎn)用潔凈室的空氣潔凈度等 級可參照藥品的GMP規(guī)范進行。